（注：本情報はAI翻訳で生成されております。概要把握・把握時間短縮などにご活用いただき、正確な内容は必ず原文をご参照ください。）
2021年10月20日付欧州委員会委任規則(EU)2022/1のCorrigendum to the Commission Delegated Regulation (EU) 2021/821 of European Parliament and of Council as regards the list of dual-use items
(
2022年1月6日付欧州連合官報 L 3
)
142ページ、附属書のポイント3B001.fを以下のように差し替える。
‘f.
次のようなリソグラフィー機器。
1.
光光学法またはX線法を用いたウェハ処理のためのステップ＆リピート（ウェハへの直接のステップ）またはステップ＆スキャン（スキャナ）装置を整列して露光するもので、以下のいずれかを有するもの。
a.
193nmよりも短い波長の光源、または
b.
MRF（Minimum Resolvable Feature Size）が45nm以下のパターンを形成することができること。
テクニカルノート
技術的注釈：MRF（Minimum Resolvable Feature Size）は、以下の式で算出されます。
ここで、Kファクター＝0.35
2.
45nm以下のフィーチャを形成できるインプリント・リソグラフィー装置。
注
3B001.f.2.を含む。
–
マイクロコンタクトプリントツール
–
ホットエンボス・ツール
–
ナノインプリントリソグラフィツール
–
ステップ＆フラッシュインプリントリソグラフィー（S-FIL）ツール
3.
以下のすべてを有するマスク製造用に特別に設計された装置。
a.
偏向された集束電子ビーム、イオンビーム、または「レーザー」ビーム。
b.
以下のいずれかを有すること。
1.
フルワイドハーフマキシマム（FWHM）スポットサイズが65nmより小さく、イメージプレイスメントが17nm（平均＋3シグマ）より小さい；または
2.
使用しない。
3.
マスク上の2層目のオーバーレイエラーが23nm（平均＋3シグマ）未満であること。
4.
直描法によるデバイス処理用に設計された装置で、以下のすべてを有するもの。
a.
偏向集束電子ビーム、および
b.
以下のいずれかを有すること。
1.
最小ビームサイズが15nm以下であること、または
2.
オーバーレイエラーが27nm（平均＋3シグマ）以下であること』。
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・・・以上は新着情報の冒頭の一部となります。
詳細な情報は原文を参照ください。
Corrigendum to Commission Delegated Regulation (EU) 2022/1 of 20 October 2021 amending Regulation (EU) 2021/821 of the European Parliament and of the Council as regards the list of dual-use items (Official Journal of the European Union L 3 of 6 January 2022)
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